معالجة ظاهرة تكتل طبقة الزجاج على السطح الخزفي واطئ الحرارة

الملخص

تمثلت هذه الدراسة بمعرفة الأكاسيد التي تسبب ظاهرة التكتل على طبقة الزجاج وطرق معالجتها من خلال التحكم بنسبة إضافة هذه الأكاسيد وتحديد درجة الحرارة من خلال فورملة صياغة خلطة الزجاج حسب قاعدة سيكر، وقد شملت هذه المعالجة ثلاث مباحث، المبحث الأول شمل المكونات الأساسية للزجاج والتي تتكون من الأكاسيد الحامضية RO2 والقاعدية R2O والمتعادلة R2O3 فالحامضية تكونت من السليكا SiO2 وانقلابات السليكا التي تعتبر التغير الثانوي في البناء الشبكي للسليكا، أما المتعادلة فقد تكونت من الألومينا (Al2O3) وأكسيد البوريك (B2O3)، أما الأكاسيد القاعدية والتي تعتبر مركبات معدلة لشبكة التزجيج أحادية التكافؤ تكون على نوعين القلويات والقواعد الترابية فالقلويات تكونت من أوكسيد الصوديوم (Na2O) وأكسيد الرصاص (PbO).